THOT08 　ビーム診断・ビーム制御／粒子源　 8月1日 テルサホール 11:10-11:30

イオン注入用レーザーイオン源の開発：レーザープラズマの磁場集束

Development of laser ion source for ion implantation : laser-plasma focusing by magnetic field

○柏木 啓次，山田 圭介，細谷 青児（量研高崎）

○Kashiwagi Hirotsugu, Yamada Keisuke, Hosoya Seiji (QST Takasaki)

レーザーイオン源は、真空チェンバー内の固体試料にパルスレーザーを集光照射することで生成するプラズマからイオンを電場で引き出してビームとして利用するイオン源である。多種の固体試料を用いることで、多核種のイオンビームを迅速に切り替えて生成可できる。この特長を生かし、我々は多様なイオン種が必要とされるイオン注入装置用のレーザーイオン源を開発している。 レーザーイオン源で発生したプラズマは広い角度分布をもって3次元的に拡散し、引出電極孔付近に到達したプラズマのイオンのみが電場によってビームとして引き出される。そのため、発生したイオンのごく一部のみがビームとして利用可能であり、大部分はイオン源内で損失する。そこで、ビーム引出領域に到達するイオンの量を増加させてビームの大強度化を行うため、プラズマの拡散を抑制するためのソレノイド電磁石及び磁場中でのプラズマのイオン電流を測定する装置を開発した。発表では本装置を用いたプラズマ集束実験について報告する。