FROA10 　光源加速器／加速器土木　 8月2日 アプローズ 15:50-16:10

数GeV電子照射によるJLABビームダンプ下流における遮蔽実験

Shielding experiment in the downstream of the JLAB beam dump with several GeV electron beam

○中尾 徳晶（清水建設（株）），ウェルチ キース，ワイズマン マーク，スタボラ アダム，デグティアレンコ パベル（ジェファソン研究所），佐波 俊哉，照沼 信浩，森川 祐，坂木 泰仁（高エネ研）

○Noriaki Nakao (Shimizu Corporation), Keith Welch, Mark Wiseman, Adam Stavola, Pavel Degtiarenko (JLAB), Toshiya Sanami, Nobuhiro Terunuma, Yu Morikawa, Yasuhito Sakaki (KEK)

米国ジェファソン国立加速器研究所(JLAB)において、数GeV電子がビームダンプに照射された際に生じる二次粒子による遮蔽実験を行なった。電子エネルギーは2.2、4.3、6.4および8.45 GeVであり、ビームダンプはアルミ製で冷却水が循環している。その下流には、コンクリート遮蔽が設置されており、その遮蔽には地上から約10m深さのビームライン軸まで届く垂直方向の測定孔（直径約5cm）が３つ（遮蔽表面から91、273および570 cm厚）設置されている。その測定孔にアルミまたは黒鉛の試料を設置して照射を行ない、照射後の試料からのガンマ線を測定し、Na-24またはC-11の生成放射性核種生成率およびその減衰曲線を評価した。モンテカルロシミュレーションの結果との比較を行ない、実験値と2倍程度の良い一致を得た。 本実験はJLAB および米国エネルギー省(DOE)の協力のもと行なわれた。