WEP06 　ポスター②　 8月30日 14号館1421教室 13:30-15:30

SPring-8における光位置モニタのフィリング・パターン変更による影響評価

Evaluation of influence on X-ray beam position monitors by changing filling pattern at SPring-8

○青柳 秀樹，高橋 直（高輝度光科学研究センター）

○Hideki Aoyagi, Sunao Takahashi (JASRI)

SPring-8の放射光ビームラインでは、光電子放出型の光位置モニタ（X-ray Beam Position Monitor, XBPM）を運用している。しかし、蓄積リングのフィリング・パターンを変更した時に、挿入光源ビームライン用XBPMでは出力値に影響が生じていた。そこで、原因となっていた放出光電子の空間電荷効果の影響を低減させるために、4枚の検出素子の配置を修正した傾斜配置型を新しく導入した。これにより、運用上問題の無いレベルにまで解消することに成功した。XBPMの検出素子からの出力信号を、光電子収集電極のバイアス電圧を変化させて測定することにより、フィリング・パターン変更の影響を評価することができる。本報告では、バイアス電圧依存性のデータを定量的かつ系統的に取得した結果について議論する。