FRP55 　ポスター④　 9月1日 14号館1444教室 10:10-12:10

Nb3Sn超伝導空洞のためのNb/Snスパッタリング成膜試験

Nb/Sn coating trial for Nb3Sn superconducting cavities using DC magnetron sputtering

○岡田 貴文，井藤 隼人，山本 将博（高エネ研）

○Takafumi Okada, Hayato Ito, Masahiro Yamamoto (KEK)

Nb3Sn超伝導空洞に向けたNb/Snツイストワイヤーカソードを用いたDCスパッタリングによるサンプル試験について報告を行う。 Nb3Snは転移温度がTc=18 Kと高く、4.2 K運転でNbを超える高Q0値をもつ超伝導空洞として近年、多くの研究開発がなされている。 Nb3Sn超伝導空洞は、真空炉内でNb表面に対してSn蒸気と反応させる蒸気拡散法が主要な成膜方法として開発が進んでいる。一方で、DCマグネトロンスパッタはNbとSnが混合した成膜が可能であり、条件次第では拡散法によって得られるNb3Sn膜より容易に高品質の膜が得られる可能性がある。 CERNで開発されたDCマグネトロンスパッタを用いたNEGコーティング手法を応用し、Nb基板とCu基板に対してNb/Sn膜を成膜し、その後、アニールによる相互拡散によって、Nb3Sn膜を生成する。今回は、DCマグネトロンスパッタの成膜テスト結果と、その表面分析結果を報告する。