| FRP53 ポスター④ 9月1日 14号館1444教室 10:10-12:10 |
| KEK-COI棟における9セルNb空洞の縦型電解研磨設備の整備状況 |
| Vertical electropolishing (VEP) facility for 9-cell Nb cavity in the KEK-COI building |
| ○後藤 剛喜，早野 仁司，梅森 健成，文珠四郎 秀昭（KEK） |
| ○Takeyoshi Goto, Hitoshi Hayano, Kensei Umemori, Hideaki Monjushiro (KEK) |
| 現在，高エネルギー加速器研究機構(KEK)の超伝導加速器利用促進化推進(COI)棟において，超伝導線形加速器に用いる9セルNb空洞の電解研磨(EP)処理を行うための縦型電解研磨(VEP)設備の整備が進められている｡本設備ではKEKで既に導入実績がある横型EP方式(空洞を水平姿勢でEP処理)ではなく，空洞を垂直姿勢でEP処理を行う縦型方式を採用している｡その理由として，(1)縦型方式は機械機構の大幅な簡略化が可能(空洞姿勢の回転機構が不要など)，(2)縦型の方が作業安全性が高いなど，EP処理工程の大幅なコスト削減ができるためである｡昨年度までに設備の設置工事と安全評価が完了し，実際にNb空洞のバルクEP処理(研磨量: 80 μm)と微細EP処理(20 μm)を行った｡本発表ではそれらの詳細と今後の改修事項にについて報告する｡ |