FRP27 　ポスター④　 9月1日 14号館1432教室 10:10-12:10

EUV-FELの再生増幅化に必要な光フィードバックと光取り出しの検討

Investigation of optical feedback and light extraction required for regenerative amplification of EUV-FEL

○加藤 龍好，本田 洋介，谷川 貴紀（高エネ研）

○Ryukou Kato, Yosuke Honda, Takanori Tanikawa (KEK)

KEKでは近い将来に先端半導体露光で必要とされる強力なEUV光源としてERL技術を用いた高平均出力のFEL（EUV-FEL）を提案している。EUV-FELのプロトタイプ機ではその全長が200mにおよぶため、実機ではよりコンパクトなサイズに収まることが求められている。コンパクト化を図る手法の一つとして、マルチターン化（多重回加速）が考えられる。これにより主超伝導LINACの長さを1/2、1/3にすることが可能となるが、今度はアンジュレータセクションの長さがEUV-FEL全体のサイズを決めるようになる。アンジュレータ長を減じる手法の一つとして、FEL出力の一部を入力側にフィードバックし、次のパルスに対する種光とする再生増幅型FEL（RA-FEL）が挙げられる。RA-FELでは光フィードバック光学系が必要となるが、EUV露光装置で使用されているMo/Siの多層膜ミラーでは、直入射に近い場合は偏光によらず70%程度の反射率が確保できるものの、斜入射になると反射率の偏光依存性が大きくなり、可変偏光アンジュレータを使用する意味が失われてしまう。そこで我々は米国 Lawrence Berkeley 研究所のWebサイトで公開されているX線の反射率データベースを使用して、光フィードバック光学系と光取り出し光学系に使用可能なミラー材質とその配置について検討を行った。