TUP043 ポスター① 10月18日 会議室P 13:30-15:30 |
RCNPイオン源の高輝度化 |
Improvement of the brightness of ion sources at RCNP |
○橘髙 正樹,福田 光宏,依田 哲彦,神田 浩樹,畑中 吉治,斎藤 高嶺,田村 仁志,安田 祐介,森田 泰之,武田 佳次朗,原 隆文,荘 浚謙,ZHAO HANG,松井 昇大朗(阪大RCNP) |
○Masaki Kittaka, Mitsuhiro Fukuda, Tetsuhiko Yorita, Hiroki Kanda, Kichiji Hatanaka, Takane Saitou, Hitoshi Tamura, Yusuke Yasuda, Yasuyuki Morita, Keijiro Takeda, Takafumi Hara, Tsum Him Chong, Hang Zhao, Syotaro Matsui (RCNP) |
大阪大学核物理研究センター(RCNP)では、RI 製造や中性子、μ 粒子といった2次ビームの利用が近年拡大している。そのため加速器からの 1 次ビームの増強を進めている。本研究では、RCNPにおけるビーム増強の開発の一環として、イオン源の高輝度化を実施した。この高輝度化の実施は、イオンビームの高強度化はもちろんのこと、同時にエミッタンスを低減することで、ビームロスに伴う機器への熱負荷や放射化を抑えるためである。イオン源の高輝度化を実現するため、既存のECRイオン源の加速電圧の高圧化を行った。既存の ECR イオン源は引き出し電圧が 15 kV で運用されていたが、50 kV まで高圧化することで、イオン源から引き出されるビームの高輝度化を目指す。改造にむけて、まず、OPERA 3D,IGUN を用いて電磁場シミュレーションと電磁場中でのイオンビームのシミュレーションを行う。電磁場シミュレーションの結果をもとに、新しい絶縁構造を設計し、製作を行う。製作された電極と絶縁体を使用して、高圧印加試験とビームテストの測定を行う。本発表ではイオン源の改造設計と高輝度ビーム生成の現状を報告する。 |