THP058 　ポスター③　 10月20日 会議室P 13:00-15:00

ERL型EUV自由電子レーザーの設計状況

Design study of the ERL EUV-FEL

○本田 洋介，谷川 貴教，加藤 龍好（高エ研）

○Yosuke Honda, Takanori Tanikawa, Ryukou Kato (KEK)

将来の半導体製造に向けた光リソグラフィの光源として、エネルギー回収型の大平均強度EUV-FELの設計検討を行っている。Genesisを用いてFEL部のパラメータサーチを行い、要求ビーム性能とアンジュレータ部の概念設計を検討した。また、入射器以降のERL型加速器の設計について、入射器のビーム設計の困難を緩和できる可能性がある多段型の構成を新たに検討し、機械学習の手法を導入したビーム光学の設計を行った。