MOP005 　加速器応用・産業利用/粒子源　 8月9日 会議室P 12:50 - 14:50

2MHz高周波源による高周波大強度負水素イオン源から 引き出されたビームへの影響

Effect of an 2-MHz RF source on the H- beam extracted from an rf-driven high-intensity H- ion source

○神藤 勝啓（J-PARC/JAEA），柴田 崇統（J-PARC/KEK），和田 元（同志社大院理工）

○Katsuhiro Shinto (J-PARC/JAEA), Takanori Shibata (J-PARC/KEK), Motoi Wada (Doshisha Univ.)

J-PARCやSNS、LINAC4では2MHzの高周波源を用いてイオン源チャンバー内で水素プラズマを生成し、大強度負水素イオンビームを引き出している。これまで、我々は高周波負水素イオン源より引き出された大強度負水素イオンビームの特性について報告してきた。今回、高時間分解能でマクロパルス内でのエミッタンスの変化を測定する計測系を開発した。この計測系を用いてイオン源より引き出された負水素イオンビームのエミッタンスを測定したところイオン源のプラズマ生成に用いている高周波源と同じ周波数またはその高調波で揺動していることが分かった。本発表では、エミッタンス揺動の計測結果についてセシウムを導入していく過程でどのように変化しているかについて報告する。