WEPP15 　ポスターセッション①　 9月2日 ポスター会場 12:40-14:40

大強度陽子ビーム用縦方向分布モニター応答特性評価

Evaluation of the bunch-shape monitor for the high-intensity proton beam

○北村 遼（JAEA），二ツ川 健太（KEK），林 直樹，平野 耕一郎，近藤 恭弘（JAEA），小坂 知史（日本アドバンストテクノロジー株式会社），宮尾 智章（KEK），根本 康雄（日本アドバンストテクノロジー株式会社），森下 卓俊，小栗 英知（JAEA）

○Ryo Kitamura (JAEA), Kenta Futatsukawa (KEK), Naoki Hayashi, Koichiro Hirano, Yasuhiro Kondo (JAEA), Satoshi Kosaka (Nippon Advanced Technology Co.,Ltd.), Tomoaki Miyao (KEK), Yasuo Nemoto (Nippon Advanced Technology Co.,Ltd.), Takatoshi Morishita, Hidetomo Oguri (JAEA)

大強度・低エミッタンスな陽子ビーム加速を実現するため、空間電荷効果の影響が大きい 低エネルギー領域での縦方向分布モニター(バンチシェイプモニター; BSM)運用試験を進めている。BSM内部でビームを受ける二次電子生成標的に熱負荷耐性の良い高配向性グラファイト(HOPG)を導入したことで、標的破損による計測中断が無くなり、安定した運用が可能となった。しかしHOPGを導入したBSMで測定した縦方向分布はシミュレーションによる予想分布より系統的に広いため、定量的な測定には改善の余地がある。J-PARCリニアック棟テストスタンドのビームを利用して、BSMの応答特性を調査した。この試験では二次電子ビームの初期広がりを抑制するため、板状に加工されたHOPG標的の幅を1 mmから0.2 mmに縮小した。さらに信号飽和を防ぐため、電子増倍管のゲイン調整を実施した。調整後に測定した縦方向分布はシミュレーション予想と一致した。本公演ではビーム試験から得たBSM応答に関する知見とビームマッチング調整に向けた今後の展望を報告する。