THPP58 　ポスターセッション②　 9月3日 ポスター会場 13:10-15:10

KEK-PFリングトップアップビーム入射用パルス六極電磁石のための渦電流抑制セラミックスダクトの新たな導入

New installation of eddy-current suppressed ceramics duct to the pulsed sextupole magnet for top-up beam injection in KEK-PF ring

○満田 史織，高木 宏之，高井 良太，野上 隆史，内山 隆司（高エネ研），Lu Yao（総研大），小林 幸則，帯名 崇，原田 健太郎，上田 明，長橋 進也（高エネ研），横山 篤志，濱地 健吾（京セラ（株））

○Chikaori Mitsuda, Hiroyuki Takaki, Ryota Takai, Takashi Nogami, Takashi Uchiyama (KEK), Yao Lu (SOUKENDAI), Yukinori Kobayashi, Takashi Obina, Kentaro Harada, Akira Ueda, Shinya Nagahashi (KEK), Atsushi Yokoyama, Kengo Hamaji (Kyocera)

KEK-PFでは次世代光源加速器の新たなトップアップ入射技術の要となる多極パルス入射技術の開発を推し進めて来ている。世界に先駆けて入射の成功を収めたパルス六極電磁石入射技術は国内ではUVSOR、あいちSRと利用が展開され、世界的には多極パルス入射技術の開発の先鞭をつけている。KEK-PFでの運転適用後、渦電流を起源とする不整磁場による無摂動入射の弊害が新たな課題として見つかっている。主たる要因の一つであるセラミックスダクト内面コーティングからの渦電流を抑制するための新たなセラミックスダクトの開発が進められ、現在、新セラミックスダクトの製作と既設ダクトとの交換が完了し、パルス六極電磁石に適用する準備が整った。本件発表では、開発に至る経緯と製作の概要について報告し、これに関連し本会では、別に、高木、高井、Luにより、ビームベースドによる渦電流効果の検証、渦電流抑制、ビームインピーダンス低減の観点からのコーティング形状設計の詳細、渦電流生成の証拠となる磁場測定の結果が報告される。