THPP08 　ポスターセッション②　 9月3日 ポスター会場 13:10-15:10

セラミックスチェンバー一体型パルス電磁石のための導電性コーティングパターンの最適化

Optimization of conductive coating pattern for the ceramics chamber with integrated pulsed magnet

○高井 良太，高木 宏之，満田 史織，野上 隆史，内山 隆司，帯名 崇，原田 健太郎，上田 明，長橋 進也（高エネ研），Lu Yao（総研大），小林 幸則（高エネ研）

○Ryota Takai, Hiroyuki Takaki, Chikaori Mitsuda, Takashi Nogami, Takashi Uchiyama, Takashi Obina, Kentaro Harada, Akira Ueda, Shinya Nagahashi (KEK), Yao Lu (SOKENDAI), Yukinori Kobayashi (KEK)

KEKのPhoton Factory（PF）では、次世代放射光源における入射キッカーの候補の一つとして、セラミックスチェンバー一体型パルス電磁石（CCiPM）の開発を進めている。CCiPMではパルス電磁石の磁極を埋め込んだ特殊なセラミックスチェンバーを使用しており、その内面にはパルス磁場の透過を妨げる渦電流の抑制とビーム結合インピーダンスの低減を同時に実現するための櫛歯型導電性コーティングが施されている。本発表では、チェンバーの発熱やビーム不安定性の起源となり得るビーム結合インピーダンスをできるだけ小さく抑えることを目標に、3次元電磁界シミュレータ“GdfidL”を用いて行ったコーティングパターンの最適化について報告する。また、その過程で得られた知見を基に改良されたパルス6極電磁石用セラミックスチェンバーの内面コーティングについても述べる。