THOI02 　レーザー／LLRF　 8月1日 国際科学イノベーション棟5階 ホール 9:50-10:10

イオン化入射法による高電荷量レーザー電子加速

High-charge laser electron acceleration via ionization injection

○神門 正城，黄 開（量研関西研），Neagu Liviu，中宮 義英，Secareanu Radu，Rotaru Florrin，Cuciuc Mihai，Matei Dan（ELI NP），Pirozhkov Alexander（量研関西研），Bierwage Andreas（量研那珂研），小倉 浩一，匂坂 明人，桐山 博光，中新 信彦（量研関西研）

○Masaki Kando, Kai Huang (KPSI,QST), Liviu Neagu, Yoshihide Nakamiya, Radu Secareanu, Florin Rotaru, Mihai Cuciuc, Dan Matei (ELI NP), Alexander Pirozhkov (KPSI, QST), Andreas Bierwage (Naka, QST), Koichi Ogura, Akito Sagisaka, Hiromitsu Kiriyama, Nobuhiko Nakanii (KPSI, QST)

高強度・極短パルスレーザー電子加速の実験結果を報告する。我々は、関西研にある200 TW, 40 fsレーザーをf/10の光学系を用いて純ヘリウムまたはヘリウムに窒素ガス、ネオンガスを混ぜた混合ガスを用いてイオン化入射法の試験を行った。その結果、窒素ガスを用いた場合には、100 pCを超える大電荷量の数百MeV準単色電子ビームを観測し、ネオンガスを用いた場合には低発散角のビームを観測した。これらは、ガスのイオン化強度に依存した電子入射領域の体積と入射タイミングが影響していると考えられ、ガス種による電子加速の制御が行えることを示唆している。