IPPH002 　萌芽的加速器技術の提案　 7月31日・8月1日・2日 百周年時計台記念館 国際交流ホール 12:22-12:24(WE_SO)13:30-15:30(WE/TH)10:50-12:50(FR)

レーザーイオン源の波形制御のためのパルス磁場の検討

Study on pulsed magnetic field for waveform control of laser ion source

○高橋 一匡，葛本 雅之，松本 友樹，佐々木 徹，菊池 崇志（長岡技大）

○Kazumasa Takahashi, Masayuki Kuzumoto, Yuki Matsumoto, Toru Sasaki, Takashi Kikuchi (Nagaoka Univ. Tech.)

レーザーイオン源は固体ターゲット上に高出力のレーザーを集光することによりプラズマを発生させ，印加した電圧によりイオンビームを形成する装置であり, 重イオン慣性核融合や高エネルギー密度科学実験，粒子線医療を実現するための大電流イオンビームを供給できるイオン源としてレーザーイオン源が研究されている．レーザーイオン源はパルスレーザーを使用してアブレーションプラズマを生成するため，その電流波形はインパルス状である．しかし，イオンビームの輸送やエミッタンス低減の観点からは電流波形の変動を抑える必要がある．そこで，能動的に電流波形を平滑化するために，パルス磁場の印加によるプラズマ密度の制御が検討されている．パルス磁場によりプラズマを部分的に収束することができるため，ビーム波形の制御が可能である. 本研究では, よりフラットトップに近いビーム波形を得るためのパルス磁場の印加条件の検討を行った結果について議論する.