WEOL04 　加速構造　 8月8日 特別会議室１ 16:20 - 16:40

第三高調波電圧誘導法を用いた多層薄膜試料の超伝導特性の評価

Evaluation of superconducting characteristics on the multilayer thin-film structure using the third harmonic voltage method

○片山 領，岩下 芳久，頓宮 拓（京都大学化学研究所），佐伯 学行，早野 仁司，久保 毅幸（高エネルギー加速器研究機構），及川 大基（宇都宮大学），井藤 隼人（総研大），伊藤 亮平，永田 智啓（アルバック）

○Ryo Katayama, Yoshihisa Iwashita, Hiromu Tongu (Kyoto University, ICR), Takayuki Saeki, Hitoshi Hayano, Takayuki Kubo (KEK), Hiroki Oikawa (Utsunomiya University), Hayato Ito (Sokendai), Ryohei Ito, Tomohiro Nagata (ULVAC inc.)

超伝導加速空洞において近年、ロンドン長以下の厚さの超伝導薄膜と絶縁膜を交互に積層する工夫により、最大加速勾配の増大が図れると指摘があった。加速空洞の内面に対して超伝導薄膜の多層膜コーティングを行い、母材であるニオブへの到達磁場を大幅に低減出来れば、現在のニオブ製の超伝導加速空洞の最大加速勾配を 35 MV/m から大幅に向上できる可能性があり、学術利用加速器から産業利用加速器まで多大なインパクトがあるため、その実現可能性の詳細な検討が望まれる。 本研究では、この理論的な枠組みの検証のため、第三高調波電圧誘導法を用いて NbN 超伝導薄膜と SiO2 絶縁膜薄膜をニオブバルク上に成膜した多層薄膜コーティング試料の超伝導特性の評価を行なった。その結果、単なるニオブバルクと比較して、最大加速勾配の指標である下部臨界磁場の値が二割程度向上していることが示された。本研究では、この測定と評価の詳細について報告する。