SAP047 　ポスターセッション１　 8月3日 豊田講堂１階アトリウム 13:00 - 15:00

マルチパルスレーザーを用いたレーザーイオン源

Laser ion source with a multi pulse laser

○不破 康裕，池田 峻輔，熊木 雅史，関根 恵（理研），岡村 昌宏（BNL），岩下 芳久（京大化研）

○Yasuhiro Fuwa, Shunsuke Ikeda, Masafumi Kumaki, Megumi Sekine (RIKEN), Masahiro Okamura (BNL), Yoshihisa Iwashita (ICR, Kyoto-u)

レーザーイオン源は高強度のパルスイオンビームを生成可能な装置として注目されている。レーザーイオン源では、レーザーとターゲットの相互作用で発生したプラズマ中のイオンが引き出し電極で引き出されることによってイオンビームが生成される。この方式では、生成イオンビームのパルス幅は引き出し部でのプラズマの縦方向の大きさによって決定される。レーザープラズマはプラズマ発生位置から引き出し部までの間において断熱膨張しながら進行するため、長いパルス幅のビームを得るにはプラズマのドリフト区間を長くする必要がある。この場合、プラズマの膨張とともにプラズマ中の粒子密度が低下するために得られるイオンビームの強度の低下を避けられない。このイオンビーム強度の低下を避ける方法として、複数のレーザーパルスを用いて時間差をつけてプラズマを生成する方法が考えられる。本研究では、ダブルパルスレーザーを用いてこの手法の可能性を検証している。